激光共聚焦多點(diǎn)測高系統(tǒng)及測高方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011608082.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112414312A 公開（公告）日 2021-02-26
申請公布號 CN112414312A 申請公布日 2021-02-26
分類號 G01B11/06(2006.01)I;G01B11/30(2006.01)I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 馬雙雙 申請（專利權(quán)）人 嘉興景焱智能裝備技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海霖睿專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃燕石;陳得宗
地址 314100浙江省嘉興市嘉善縣羅星街道歸谷二路33號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及精密光學(xué)儀器測量系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種激光共聚焦多點(diǎn)測高系統(tǒng)，包括激光光源和共聚焦直線光路，所述激光光源通過準(zhǔn)直鏡向分光棱鏡發(fā)射激光，在所述激光光路的準(zhǔn)直鏡前方，設(shè)置微透鏡陣列和第一分光鏡，激光入射光位于第一分光鏡的透光光路上，在所述第一分光鏡的分光光路上設(shè)置第二分光鏡，在所述第二分光鏡的透光光路和分光光路上，分別設(shè)置正離焦PMT組和負(fù)離焦PMT組，在正離焦PMT組的光路上設(shè)置正離焦小孔組，在負(fù)離焦PMT組的光路上負(fù)離焦小孔組，所述微透鏡陣列包括多個陣列排布的凸透鏡。本發(fā)明還公開了對應(yīng)的測高方法。本發(fā)明針對待測面的實(shí)際分布通過微透鏡陣列來實(shí)現(xiàn)更換測試范圍，實(shí)現(xiàn)同時測量多個不同點(diǎn)的特征信息。??