高速連續(xù)卷繞式真空蒸鍍鋰設(shè)備及利用其實現(xiàn)基材蒸鍍鋰的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710438908.4 申請日 -
公開（公告）號 CN107177820B 公開（公告）日 2019-05-24
申請公布號 CN107177820B 申請公布日 2019-05-24
分類號 C23C14/24（2006.01）I; C23C14/14（2006.01）I; C23C14/56（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宋殿權(quán); 張春濤; 管云飛 申請（專利權(quán)）人 哈爾濱光宇電源股份有限公司
代理機構(gòu) 哈爾濱市松花江專利商標事務(wù)所 代理人 哈爾濱光宇電源股份有限公司
地址 150078 黑龍江省哈爾濱市道里區(qū)開發(fā)區(qū)迎賓路集中區(qū)太湖南路8號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 高速連續(xù)卷繞式真空蒸鍍鋰設(shè)備及利用其實現(xiàn)基材蒸鍍鋰的方法，它涉及一種基材蒸鍍鋰設(shè)備及利用其實現(xiàn)基材蒸鍍鋰的方法。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有基材蒸鍍鋰設(shè)備對金屬鋰的利用率低，蒸鍍厚度為≤1μm，蒸鍍時污染范圍大的問題。高速連續(xù)卷繞式真空蒸鍍鋰設(shè)備包括機體外殼、腔體擋板、放卷系統(tǒng)、基材加熱器、主輥、冷卻輥、收卷系統(tǒng)、坩堝、坩堝固定架、坩堝加熱器、保溫層、坩堝橫移升降平臺、放卷過渡輥、加熱過渡輥、冷卻過渡輥、上腔真空閥門、下腔真空閥門和加料可視窗口；方法：保證蒸鍍厚度范圍1μm～100μm之間可隨時調(diào)整，金屬鋰最高利用率可達到90％以上。本發(fā)明主要用于基材蒸鍍鋰。