一種制作曲面浮雕輪廓器件的掩模版圖案優(yōu)化設(shè)計方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111616388.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114297975A 公開（公告）日 2022-04-08
申請公布號 CN114297975A 申請公布日 2022-04-08
分類號 G06F30/392（2020.01）I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 劉志祥;徐富超;賈辛;謝強 申請（專利權(quán)）人 成都同力精密光電儀器制造有限公司
代理機構(gòu) 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 代理人 金怡
地址 610209四川省成都市雙流350信箱
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種制作曲面浮雕輪廓器件的掩模版圖案優(yōu)化設(shè)計方法，根據(jù)曝光光強分布與光刻膠不同成分的吸收系數(shù)、光敏系數(shù)等參數(shù)的關(guān)系，建立光刻膠的光敏混合物（PAC）濃度分布對曝光光強的響應(yīng)模型；根據(jù)光刻膠完全曝光的顯影速率、光刻膠未曝光的顯影速率、光敏物質(zhì)相對濃度的閾值、顯影選擇常數(shù)等參數(shù)建立光刻膠顯影模型；通過分層計算光刻膠各點PAC濃度分布和顯影速率分布，再結(jié)合采用微小單元格去除法，建立起從曝光量到實際顯影圖形輪廓的仿真流程；根據(jù)掩模移動曝光原理建立二元掩模開口函數(shù)與曝光量的關(guān)系；再通過迭代優(yōu)化算法，優(yōu)化設(shè)計得到曲面浮雕輪廓器件制作所需的掩模版圖案。