一種新型低電容TVS結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021991152.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212676278U | 公開(公告)日 | 2021-03-09 |
申請公布號 | CN212676278U | 申請公布日 | 2021-03-09 |
分類號 | H01L21/328(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王洋;施錦源 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市鴻泰集成電路技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 | 代理人 | 馮建華;劉曰瑩 |
地址 | 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道橋頭社區(qū)福海信息港A1棟406 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型適用于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種新型低電容TVS結(jié)構(gòu),該新型低電容TVS結(jié)構(gòu)包括高阻襯底,高阻襯底通過三重擴(kuò)散工藝形成第一摻雜層及位于第一摻雜層上方的高阻層,高阻層設(shè)有溝槽隔離結(jié)構(gòu),所述溝槽隔離結(jié)構(gòu)將高阻層分為左通道、中間通道和右通道,中間通道形成第二摻雜層,右通道內(nèi)形成阱區(qū),阱區(qū)內(nèi)、左通道和中間通道內(nèi)均形成第三摻雜層;采用三重擴(kuò)散工藝的方式形成高阻層,獲得超低電容TVS結(jié)構(gòu),相對于外延技術(shù)獲得的高阻層,本實用新型的實現(xiàn)難度小且制作成本低,所形成的TVS結(jié)構(gòu)具有低電容和高浪涌的性能。?? |
