一種埋入式三維堆疊的晶圓級扇出封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111188437.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113809029A | 公開(公告)日 | 2021-12-17 |
申請公布號 | CN113809029A | 申請公布日 | 2021-12-17 |
分類號 | H01L23/48;H01L23/488;H01L23/31;H01L21/50;H01L21/768;H01L21/60 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李宗懌;郭良奎;羅富銘;潘波 | 申請(專利權(quán))人 | 長電集成電路(紹興)有限公司 |
代理機構(gòu) | 南京經(jīng)緯專利商標代理有限公司 | 代理人 | 趙華 |
地址 | 312000 浙江省紹興市越城區(qū)臨江路500號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種埋入式三維堆疊的晶圓級扇出封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,屬于半導(dǎo)體芯片封裝技術(shù)領(lǐng)域。其構(gòu)造了帶有TSV通孔的橋接芯片結(jié)構(gòu),其從上而下分布的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括:金屬柱Ⅰ(113)、金屬層Ⅰ(112)、金屬導(dǎo)電柱(109)、金屬層Ⅱ(117)、金屬柱Ⅱ(118)和柵極陣列焊球Ⅰ(119),使得電信號能夠同時實現(xiàn)第一再布線金屬層(203)與第二再布線金屬層(209)的電性連接,利用第二再布線金屬層(209)、第一再布線金屬層(203)以及帶有TSV通孔的橋接芯片(122)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的TSV方法實現(xiàn)了芯片間的垂直互聯(lián)。本發(fā)明進一步減小了封裝體的厚度,同時,提供了更多的芯片間電信號垂直傳輸?shù)穆窂健?/td> |
