一種真空內(nèi)準(zhǔn)直器裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210161432.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114694876A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114694876A 申請公布日 2022-07-01
分類號 G21K1/02（2006.01）I;G21K5/00（2006.01）I 分類 核物理；核工程;
發(fā)明人 王赫影;郭慶洋;羅平;石泓 申請（專利權(quán)）人 中國科學(xué)院高能物理研究所
代理機(jī)構(gòu) 北京君尚知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 100049北京市石景山區(qū)玉泉路19號（乙）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種真空內(nèi)準(zhǔn)直器裝置，其特征在于，包括真空腔體（1）、鎢合金塊（2）和可調(diào)基座（3）；其中，所述鎢合金塊（2）安裝于所述真空腔體（1）內(nèi)，所述真空腔體（1）安裝于所述可調(diào)基座（3）上；所述鎢合金塊（2）的中心加工出通光孔，所述通光孔的中心與光路中心重合。本發(fā)明適合在超高真空環(huán)境中使用，且機(jī)械加工性能好、可直接在材料上加工出各種尺寸、形狀的通光孔徑，孔徑越小向下游傳播的軔致輻射就越少，限制軔致輻射的精度也很高，很好的起到屏蔽軔致輻射的作用；限制軔致輻射材料鎢合金塊多塊分段安裝，整體組合采用臺階式無直通縫隙設(shè)計(jì)，整體設(shè)備安裝方便、結(jié)構(gòu)穩(wěn)固。