一種清潔研磨機(jī)上下盤
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022169003.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213319561U | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213319561U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號(hào) | B24B45/00（2006.01）I;B24B37/27（2012.01）I;B24B37/34（2012.01）I;B24B37/025（2012.01）I | 分類 | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 趙海波;李建波;滕祥飛;徐歡 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 惠晶顯示科技（蘇州）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉寧 |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市鳳凰鎮(zhèn)雙龍村 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種清潔研磨機(jī)上下盤，包括上研磨盤、球坯、下內(nèi)研磨盤、下外研磨盤、固定座和導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，所述上研磨盤固定于固定座的底部，所述下內(nèi)研磨盤位于下外研磨盤的內(nèi)側(cè)，且下內(nèi)研磨盤和下外研磨盤之間形成V型槽，所述球坯置于V型槽上，所述上研磨盤、下內(nèi)研磨盤、下外研磨盤處于同一豎直面上；本實(shí)用新型的有益效果是：通過設(shè)計(jì)的導(dǎo)向機(jī)構(gòu)，利用限位塊、限位槽以及導(dǎo)槽和導(dǎo)塊的搭配，增加上研磨盤和固定座連接的導(dǎo)向，使得上研磨盤和固定座通過螺栓穿過對(duì)應(yīng)的螺栓孔固定更快捷；通過設(shè)計(jì)的防護(hù)機(jī)構(gòu)，起到對(duì)上研磨盤的防護(hù)，減少了更換上研磨盤的成本，當(dāng)防護(hù)盤磨損后，可將防護(hù)盤取下進(jìn)行更換。?? |
