研磨制程浸泡槽

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022119988.7 申請日 -
公開（公告）號 CN213728171U 公開（公告）日 2021-07-20
申請公布號 CN213728171U 申請公布日 2021-07-20
分類號 B08B3/04（2006.01）I;B08B3/14（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 陳晨 申請（專利權）人 惠晶顯示科技（蘇州）有限公司
代理機構 上海精晟知識產權代理有限公司 代理人 劉寧
地址 215000江蘇省蘇州市鳳凰鎮(zhèn)雙龍村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了研磨制程浸泡槽，包括底座，所述底座的上表面固定安裝有浸泡槽主體，所述浸泡槽主體的內部邊緣處固定安裝有調節(jié)板，所述底座的下表面兩端均焊接固定有第一固定塊，所述第一固定塊的兩側均通過連接銷連接有第一支撐桿，所述第一支撐桿的端部安裝有連接板；通過在連接板的端部設計第一支撐桿與第二支撐桿，避免浸泡槽在外界使用時根據(jù)操作的位置不同不便于調節(jié)高度，使得裝置在較高或較低的位置處操作不方便，可以手握手輪帶動螺紋桿在螺紋孔的內部轉動，使得在轉動螺紋桿時，不斷將兩個連接板向同一個方向運動，此時使得第一支撐桿與第二支撐桿調節(jié)至一定的傾斜度，使得底座與底板處于一定的高度。