一種等離子熔覆裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021846225.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212894930U | 公開（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN212894930U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-06 |
| 分類號(hào) | C23C4/134 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王元宗;王林彥;宗少民 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 山東海納等離子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 濟(jì)南知來(lái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 付素心 |
| 地址 | 250000 山東省濟(jì)南市歷下區(qū)山大南路60號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種等離子熔覆裝置，包括底座和直桿，所述直桿豎直設(shè)置，且所述直桿底端與所述底座固定連接；所述底座頂部設(shè)置有滑動(dòng)塊，所述滑動(dòng)塊通過(guò)所述底座頂面的凹槽與所述底座滑動(dòng)連接，所述直桿表面設(shè)置有多個(gè)線槽；所述直桿外側(cè)設(shè)置有支架，所述支架一端設(shè)置有送粉器，所述送粉器底部設(shè)置有熔覆槍架，所述熔覆槍架與所述送粉器底端滑動(dòng)連接，所述送粉器底端設(shè)置有出料口，所述熔覆槍架底部設(shè)置有多個(gè)熔覆槍，所述出料口與所述熔覆槍對(duì)應(yīng)設(shè)置。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置夾緊架，方便對(duì)支架的位置進(jìn)行固定，調(diào)整熔覆槍與工件之間的距離，通過(guò)設(shè)置熔覆槍架，根據(jù)工件的大小隨時(shí)更換熔覆槍，能夠準(zhǔn)確的為工件涂覆物料。 |
