一種缺陷檢測裝置及缺陷檢測方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110959661.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113533353A | 公開(公告)日 | 2021-10-22 |
申請公布號 | CN113533353A | 申請公布日 | 2021-10-22 |
分類號 | G01N21/88;G01N21/95 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 張鵬黎 | 申請(專利權)人 | 合肥御微半導體技術有限公司 |
代理機構 | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 侯軍洋 |
地址 | 230088 安徽省合肥市高新區(qū)華佗巷469號品恩科技園1號樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實施例公開了一種缺陷檢測裝置及缺陷檢測方法,缺陷檢測裝置包括光源、第一透鏡組、光程補償器組、第二透鏡組和探測器;光程補償器組包括至少一個光程補償器;光源出射的檢測光束經(jīng)待測物的表面反射形成反射光束,設置光程補償器位于第一透鏡組對待測物的表面成像的焦深范圍內(nèi);沿反射光束的傳播方向,光程補償器的厚度呈不均勻分布,光程補償器可以補償待測物的弧面引起的反射光束的光程差,使得補償光程差后的反射光束經(jīng)第二透鏡聚焦成像在同一焦平面內(nèi),探測器采集第二透鏡形成的清晰像。本裝置解決了現(xiàn)有光學成像系統(tǒng)對不平整表面以及有較大弧度的表面的待測材料難以準確識別和定位,難以獲得清晰的圖像的技術問題。 |
