一種晶圓承載結(jié)構(gòu)及半導體檢測設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111050284.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113793827A | 公開(公告)日 | 2021-12-14 |
申請公布號 | CN113793827A | 申請公布日 | 2021-12-14 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 徐揚;孫良峰;沈錦華 | 申請(專利權(quán))人 | 合肥御微半導體技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 梁佳強 |
地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)華佗巷469號品恩科技園1號樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及半導體加工技術(shù)領(lǐng)域,公開一種晶圓承載結(jié)構(gòu)及半導體檢測設(shè)備。該晶圓承載結(jié)構(gòu)包括托盤和定位標記,托盤能夠放置于光刻系統(tǒng)的工作臺上,托盤能夠承載多個基底;定位標記設(shè)置于托盤上,光刻系統(tǒng)的定位結(jié)構(gòu)能夠識別定位標記。所述晶圓承載結(jié)構(gòu)不需要根據(jù)非標準的基底的外形及尺寸重新制造工作臺,降低改進成本;托盤上能夠承載多個基底,使得光刻系統(tǒng)能夠一次性對多個基底進行光刻處理,提高光刻效率,增加產(chǎn)量;通過在托盤上設(shè)置定位標記,光刻系統(tǒng)的定位結(jié)構(gòu)通過識別定位標記來實現(xiàn)對托盤及其上承載的多個基底進行定位,定位效果好,良品率高。 |
