低剖面去耦柵結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)平板陣列天線
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201821189250.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN208608361U | 公開(公告)日 | 2019-03-15 |
申請公布號 | CN208608361U | 申請公布日 | 2019-03-15 |
分類號 | H01Q21/06(2006.01)I; H01Q1/38(2006.01)I; H01Q1/48(2006.01)I; H01Q1/50(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張小磊; 王孟 | 申請(專利權(quán))人 | 西安三維通信有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 西安嘉思特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 西安三維通信有限責任公司 |
地址 | 710077 陜西省西安市高新區(qū)丈八五路高科尚都.摩卡6幢1單元20層12003室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供了一種低剖面去耦柵結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)平板陣列天線,包括:輻射層(1)、耦合層(2)、饋電網(wǎng)絡(luò)層(3);其中,所述輻射層(1)設(shè)置于所述耦合層(2)上方;所述饋電網(wǎng)絡(luò)層(3)設(shè)置于所述耦合層(2)下方;所述輻射層(1)上設(shè)置有去耦柵(4)和輻射縫(5);所述去耦柵(4)位于相鄰所述輻射縫(5)橫向中心,減小相鄰所述輻射縫(5)的互耦效應(yīng);所述去耦柵(4)為凹槽型結(jié)構(gòu)。本實用新型提供的低剖面去耦柵結(jié)構(gòu)的波導(dǎo)平板陣列天線,通過采用凹槽型結(jié)構(gòu)的去耦柵,增加電磁波在去耦柵表面的繞射距離,實現(xiàn)去耦柵剖面的降低,從而降低天線整體的高度。 |
