具有隔離結構的集成式芯片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120980267.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215815878U | 公開(公告)日 | 2022-02-11 |
申請公布號 | CN215815878U | 申請公布日 | 2022-02-11 |
分類號 | H01L27/092(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 趙起越;石瑜 | 申請(專利權)人 | 英諾賽科(珠海)科技有限公司 |
代理機構 | 珠海智專專利商標代理有限公司 | 代理人 | 薛飛飛 |
地址 | 519000廣東省珠海市高新區(qū)金園二路39號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種具有隔離結構的集成式芯片,集成式芯片包括沿縱向布置的襯底和外延結構。外延結構包括層間電介質(I LD)層,隔離區(qū)將集成式芯片分成沿橫向布置的第一半導體器件區(qū)和第二半導體器件區(qū)。襯底包括N型區(qū)和P型區(qū),N型區(qū)與P型區(qū)之間形成兩個PN結,兩個PN結分別位于第一半導體器件區(qū)和第二半導體器件區(qū)。外延結構內(nèi)開設有縱向延伸的三個穿玻通孔。第一穿玻通孔內(nèi)設有隔離介質,第一穿玻通孔在縱向上穿過I LD層并向下延伸至襯底的底層內(nèi)。第一源極通過第一電氣互連件與襯底的外延層電連接,第二漏極和第一源極短接。第二源極通過第二電氣互連件與襯底的外延層電連接。集成式芯片可實現(xiàn)兩個半導體器件區(qū)襯底的有效隔離。 |
