電子裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111365337.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114023819A | 公開(公告)日 | 2022-02-08 |
申請公布號 | CN114023819A | 申請公布日 | 2022-02-08 |
分類號 | H01L29/778(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I;H01L23/31(2006.01)I;H01L21/56(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張安邦 | 申請(專利權(quán))人 | 英諾賽科(珠海)科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳宜保知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王琴;曹玉存 |
地址 | 519085廣東省珠海市高新區(qū)金園二路39號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 電子裝置包括第一氮化物半導(dǎo)體層、第二氮化物半導(dǎo)體層、源極電極、漏極電極、柵極電極、表面狀態(tài)補償層以及介電層。第二氮化物半導(dǎo)體層安置在第一氮化物半導(dǎo)體層上,且具有的帶隙比第一氮化物半導(dǎo)體層的帶隙更大。源極電極、漏極電極以及柵極電極安置在所述第二氮化物半導(dǎo)體層上。表面狀態(tài)補償層直接安置在所述第二氮化物半導(dǎo)體層上。介電層安置在表面狀態(tài)補償層上,并與表面狀態(tài)補償層接觸,其中介電層與表面狀態(tài)補償層相比,介電層具有較低的介電常數(shù)。 |
