采用表面微結(jié)構(gòu)硅芯沉積多晶硅的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201010604262.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN102020277B | 公開(kāi)(公告)日 | 2012-05-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102020277B | 申請(qǐng)公布日 | 2012-05-16 |
分類號(hào) | C01B33/035(2006.01)I | 分類 | 無(wú)機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 鐘真武;江宏富 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 中科協(xié)鑫(蘇州)工業(yè)研究院有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 中科協(xié)鑫(蘇州)工業(yè)研究院有限公司;江蘇鑫華半導(dǎo)體材料科技有限公司 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區(qū)昆侖山路68號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種采用表面微結(jié)構(gòu)硅芯沉積多晶硅的方法,所述方法包括使含硅氣體和氫氣在表面溫度為1000-1150℃的具有表面微結(jié)構(gòu)的硅芯上沉積并制備多晶硅,該方法與現(xiàn)有采用直徑8mm硅芯的制造方法相比,具有初始沉積表面積大、初始沉積速率快、降低還原電耗等優(yōu)點(diǎn),另外,該方法所述初具有表面微結(jié)構(gòu)的硅芯可在現(xiàn)有反應(yīng)器中直接應(yīng)用,而無(wú)需改造設(shè)備,可節(jié)約大量設(shè)備改造費(fèi)。 |
