一種降低螺線線圈的尾部長度公差的方法及螺線線圈及螺線電感

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010147573.2 申請日 -
公開(公告)號(hào) CN111243852A 公開(公告)日 2020-06-05
申請公布號(hào) CN111243852A 申請公布日 2020-06-05
分類號(hào) H01F41/04(2006.01)I;H01F27/28(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 顧杰斌;夏偉鋒 申請(專利權(quán))人 上海邁鑄半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海邁鑄半導(dǎo)體科技有限公司
地址 201821上海市嘉定區(qū)嘉定工業(yè)區(qū)葉城路912號(hào)J3408室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種降低螺線線圈的尾部長度公差的方法,先提供一基底,然后于基底上刻蝕螺旋槽孔、通槽及若干個(gè)劃片標(biāo)記,通槽刻蝕于尾段槽孔的一側(cè),且與尾段槽孔平行,再于螺旋槽孔內(nèi)填充金屬形成螺旋線圈,最后沿著靠近首段槽孔一側(cè)的劃片標(biāo)記及沿著螺旋線圈長度方向兩側(cè)的劃片標(biāo)記進(jìn)行劃片,將螺線線圈從基底上分離。本發(fā)明通過在螺旋線圈的尾部刻蝕將螺旋線圈與基底分隔的通槽,在將螺線線圈從基底上分離下來時(shí),只需劃三邊即可。螺線線圈的尾部長度的公差值由光刻的精度控制,光刻精度一般可以控制在1微米以內(nèi),故本發(fā)明提供的一種降低螺線線圈的尾部長度公差的方法,可將螺線線圈的尾部長度公差控制在1微米以內(nèi)。??