一種還原爐

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111458829.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113912065A 公開（公告）日 2022-01-11
申請公布號 CN113912065A 申請公布日 2022-01-11
分類號 C01B33/035（2006.01）I 分類 無機化學;
發(fā)明人 何隆;孫運德;李東東;梁建龍;劉興平 申請（專利權）人 內蒙古新特硅材料有限公司
代理機構 北京銀龍知識產權代理有限公司 代理人 李紅標
地址 014199內蒙古自治區(qū)包頭市土默特右旗新型工業(yè)園區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種還原爐，包括：爐體，爐體的底部具有底盤，底盤為圓形；底盤的中心設有噴嘴，底盤上具有多個第一環(huán)形區(qū)域和多個第二環(huán)形區(qū)域，相鄰兩個第一環(huán)形區(qū)域之間具有第二環(huán)形區(qū)域，多個電極孔沿第一環(huán)形區(qū)域的周向間隔分布；多個噴嘴沿第二環(huán)形區(qū)域的周向間隔分布，第一環(huán)形區(qū)域與第二環(huán)形區(qū)域均位于第三環(huán)形區(qū)域的內部，多個排氣孔沿第三環(huán)形區(qū)域的周向間隔分布。通過在不同的環(huán)形區(qū)域設置噴嘴、電極孔及排氣孔，使得還原爐中的氣場以及溫度場更加均勻，防止運行中出現“霧化”現象。