一種提升光學薄膜沉積精度的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111123009.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113881926B 公開（公告）日 2022-06-28
申請公布號 CN113881926B 申請公布日 2022-06-28
分類號 C23C14/54（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;G06F17/10（2006.01）I;G06F30/20（2020.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王胭脂;張宇暉;賀洪波;王志皓;陳昌;朱曄新;邵宇川;易葵;邵建達 申請（專利權）人 中國科學院上海光學精密機械研究所
代理機構 上海恒慧知識產(chǎn)權代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 201800上海市嘉定區(qū)清河路390號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種提升光學薄膜沉積精度的方法，包括以下步驟：1）選取敏感度最低的膜層結構進行制備；2）鍍膜；3）通過光性反演技術得到膜層結構在實際制備過程中存在的偏差；4）考慮膜層制備偏差后，重新修改設計膜層厚度，并進行第二次鍍膜；5）制備得到光性曲線與設計光性高度吻合的薄膜。本發(fā)明通過選擇低敏感度膜層結構、光性反演、厚度誤差修正，提高光學薄膜在制備過程中的準確性和穩(wěn)定性，得到沉積精度更高的光學薄膜元件。