一種防止鍍膜下側(cè)導(dǎo)電輥鍍銅的輔助槽
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022903370.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213977940U | 公開(公告)日 | 2021-08-17 |
申請公布號 | CN213977940U | 申請公布日 | 2021-08-17 |
分類號 | C25D17/00(2006.01)I;C25D17/02(2006.01)I;C25D7/06(2006.01)I;C25D3/38(2006.01)I;C25D17/10(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 劉文卿;臧世偉 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶金美新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳市遠航專利商標事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張朝陽;田藝兒 |
地址 | 401420重慶市綦江區(qū)古南街道陵園路28號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了電鍍銅膜的制造技術(shù)領(lǐng)域中的一種防止鍍膜下側(cè)導(dǎo)電輥鍍銅的輔助槽,安裝于導(dǎo)電輥的下側(cè),鍍膜產(chǎn)品由導(dǎo)電輥上側(cè)繞過,導(dǎo)電輥與第一電源的負極輸出端連接,第一電源的正極輸出端與電鍍陽極連接,其包括上端開口的槽體,槽體內(nèi)設(shè)有輔助槽鍍液,輔助槽鍍液與電鍍陽極所在的電鍍池內(nèi)的鍍池鍍液連通,導(dǎo)電輥的下側(cè)淹沒于輔助槽鍍液內(nèi),其上端裸露于輔助槽鍍液外,槽體內(nèi)設(shè)有與導(dǎo)電輥并排的輔助電極,輔助電極與第二電源的負極輸出端連接,第二電源的正極輸出端與導(dǎo)電輥的另一端部連接。本實用新型針對非金屬薄膜鍍銅時,容易在導(dǎo)電輥上產(chǎn)生鍍銅,影響銅膜質(zhì)量的問題,通過新增輔助電極,對導(dǎo)電輥上的電鍍銅進行電解,保證了導(dǎo)電輥上無銅殘留,提高銅膜產(chǎn)品質(zhì)量。 |
