一種太陽能硅片清洗系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022863634.3 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN213716841U 公開（公告）日 2021-07-16
申請公布號(hào) CN213716841U 申請公布日 2021-07-16
分類號(hào) H01L21/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L31/18（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李建弘;危晨;劉濤;趙越;唐昊 申請（專利權(quán)）人 天津市環(huán)智新能源技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津諾德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 欒志超
地址 300450天津市濱海新區(qū)塘沽海洋科技園康祥道32號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種太陽能硅片清洗系統(tǒng)，包括用于對硅片進(jìn)行清洗的預(yù)清洗部、用于對硅片進(jìn)行藥液清洗的藥液清洗部、用于對硅片進(jìn)行氧化清洗的氧化清洗部和用于對硅片進(jìn)行烘干的烘干部，還包括用于對硅片進(jìn)行低溫氧化清洗的低溫氧化清洗部、用于對硅片進(jìn)行氧化去除的氧化去除部和用于對硅片進(jìn)行漂洗的第一漂洗部，預(yù)清洗部、低溫氧化清洗部、氧化去除部、第一漂洗部、藥液清洗部、氧化清洗部與烘干部依次設(shè)置，對硅片依次進(jìn)行清洗。本實(shí)用新型的有益效果是在低溫環(huán)境下對硅片進(jìn)行清洗，降低金屬離子在硅片中的擴(kuò)散速度，減少硅片金屬離子含量，提高硅片少數(shù)載流子壽命，提高硅片性能，提升太陽能電池轉(zhuǎn)換效率。