一種硅氧復(fù)合材料及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010345671.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113644239A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-11-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113644239A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-12 |
分類(lèi)號(hào) | H01M4/36(2006.01)I;H01M4/48(2010.01)I;H01M4/62(2006.01)I;H01M4/131(2010.01)I;H01M10/0525(2010.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 席利華;趙艷雁;張君平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 惠州弗迪電池有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京英創(chuàng)嘉友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 耿超 |
地址 | 518118廣東省深圳市坪山新區(qū)比亞迪路3009號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本公開(kāi)提供了一種硅氧復(fù)合材料,該復(fù)合材料包括線(xiàn)狀多孔骨架和沉積在所述線(xiàn)狀多孔骨架孔隙中的硅氧納米顆粒;所述線(xiàn)狀多孔骨架孔徑為5?10nm,孔隙率為20?35%,所述硅氧納米顆粒的粒徑為5?8nm;優(yōu)選地,所述線(xiàn)狀多孔骨架孔徑為6?8nm,孔隙率為25?30%;所述硅氧納米顆粒的粒徑為5?6nm。該復(fù)合材料可以作為負(fù)極材料進(jìn)一步緩解充放電過(guò)程中體積膨脹產(chǎn)生的應(yīng)力,提升硅負(fù)極材料的導(dǎo)電性和機(jī)械強(qiáng)度。 |
