一種消除光刻版圖形保護(hù)集成電路知識(shí)產(chǎn)權(quán)的酸性膠體及其應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010916160.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112007592A | 公開（公告）日 | 2020-12-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112007592A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-01 |
| 分類號(hào) | B01J13/00(2006.01)I | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
| 發(fā)明人 | 陳嵐;秦毅;王北辰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中科芯云微電子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 中科芯云微電子科技有限公司 |
| 地址 | 266101山東省青島市嶗山區(qū)松嶺路169號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一種消除光刻版圖形保護(hù)集成電路知識(shí)產(chǎn)權(quán)的酸性膠體及其應(yīng)用，酸性膠體包括以下組分：質(zhì)量分?jǐn)?shù)20～40％的稀硫酸溶液94.25～94.45％，氣相二氧化硅5.45～5.6％，聚乙烯吡咯烷酮0.04～0.16％和水性聚氨酯0.015～0.025％。該酸性膠體中二氧化硅分子形成了凝膠網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，稀硫酸以交聯(lián)結(jié)構(gòu)存儲(chǔ)于其中；聚乙烯吡咯烷酮能提高酸性膠體的凝膠維持時(shí)間，SiO2與水性聚氨酯形成緊密的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，提高了凝膠的粘性、凝膠的硬度、拉伸強(qiáng)度，使其直接貼在光刻版的金屬面上，靜置，即可去除金屬圖形，達(dá)到保護(hù)光刻版上圖形知識(shí)產(chǎn)權(quán)的目的。酸性膠體去除金屬圖形的去除率達(dá)到60％以上。?? |
