一種晶片的原子臺(tái)階的寬度計(jì)算裝置、方法、設(shè)備及介質(zhì)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110896139.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113594057A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-11-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113594057A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-02 |
分類號(hào) | H01L21/66(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張九陽(yáng);舒天宇;盧仁貴;王永方;李霞;張紅巖;高超;梁云碩;張禹亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海天岳半導(dǎo)體材料有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京君慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 董延麗 |
地址 | 201306上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)鴻音路1211號(hào)10幢301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本說(shuō)明書(shū)實(shí)施例公開(kāi)了一種晶片的原子臺(tái)階的寬度計(jì)算裝置、方法、設(shè)備及介質(zhì),裝置包括:圖像獲取單元,用于在原子臺(tái)階均勻平行分布的區(qū)域內(nèi),確定晶片的測(cè)試范圍,獲取測(cè)試范圍內(nèi)的晶片對(duì)應(yīng)的原子臺(tái)階原始圖像;圖像處理單元,用于對(duì)原子臺(tái)階原始圖像進(jìn)行灰度處理,確定原子臺(tái)階灰度圖像,并根據(jù)預(yù)設(shè)方式以及原子臺(tái)階灰度圖像,確定出符合要求的波形圖;計(jì)算單元,用于根據(jù)符合要求的波形圖中的波峰之間或波谷之間的距離與原子臺(tái)階灰度圖像的尺寸,計(jì)算原子臺(tái)階的寬度,節(jié)省了人工測(cè)算的人力、物力,避免了人工計(jì)算寬度產(chǎn)生的測(cè)量誤差,可以通過(guò)程序?qū)崿F(xiàn),節(jié)約計(jì)算時(shí)間,不會(huì)引入人工測(cè)算主觀誤差。 |
