一種用于微納米粉體鍍膜的連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201511020346.9 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN106929809A 公開（公告）日 2017-07-07
申請公布號(hào) CN106929809A 申請公布日 2017-07-07
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐曉峰;逯琪;董建廷 申請（專利權(quán)）人 上海朗億新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201699上海市松江區(qū)永航路188弄1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于微納米粉體鍍膜的連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備及其制備方法，該設(shè)備包括儲(chǔ)料倉(1)、連續(xù)下料裝置(2)、傳輸系統(tǒng)(3)、磁控濺射裝置(4)、真空腔體(5)、收料倉(6)、抽氣系統(tǒng)(7)和進(jìn)氣系統(tǒng)(8)。通過該設(shè)備對微納米粉體鍍膜能夠?qū)崿F(xiàn)工藝多樣性變化及產(chǎn)品鍍層穩(wěn)定性。