一種用于微納米粉體磁控濺射連續(xù)鍍膜的振動輸送樣品臺

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201621013987.1 申請日 -
公開（公告）號 CN205974651U 公開（公告）日 2017-02-22
申請公布號 CN205974651U 申請公布日 2017-02-22
分類號 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐曉峰;逯琪;董建廷;張文彬;雷芝紅 申請（專利權）人 上海朗億新材料科技有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 201699 上海市松江區(qū)永航路188弄1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本專利涉及一種用于微納米粉體磁控濺射連續(xù)鍍膜的振動輸送樣品臺，該振動輸送樣品臺包含振動輸送面、緩沖彈簧、固定支架、振動角度調節(jié)架、振動電機五個部分，所述振動電機與振動角度調節(jié)架連接，振動角度調節(jié)架安裝于振動輸送面下方，與振動輸送面之間的夾角為0～90°，實現粉體的均勻鍍膜。該微納米粉體磁控濺射連續(xù)鍍膜設備有且只有一臺安裝于振動輸送樣品臺的振動電機，有效減少真空腔體內電機數量，降低設備維護難度，提高設備的運行可靠性及產品品質的穩(wěn)定性，同時也避免了增加動密封帶來的真空設備漏氣等問題。