一種用于磁控濺射鍍膜的粉體分散裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610983197.4 申請日 -
公開（公告）號 CN108060400A 公開（公告）日 2018-05-22
申請公布號 CN108060400A 申請公布日 2018-05-22
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐曉峰;李大銘;董建廷;逯琪;張文彬;雷芝紅 申請（專利權(quán)）人 上海朗億新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201699 上海市松江區(qū)永航路188弄1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于磁控濺射鍍膜的粉體分散裝置，包括側(cè)壁(1)、托盤(2)、彈珠夾層(3)、振動(dòng)系統(tǒng)(4)、彈簧(5)和底座(6)。所述托盤(2)上表面呈微鋸齒型，所述彈珠夾層(3)安裝于托盤(2)和振動(dòng)系統(tǒng)(4)之間。在進(jìn)行磁控濺射鍍膜時(shí)，該粉體分散裝置通過托盤(2)上的密集微鋸齒和彈珠夾層(3)中彈珠的跳動(dòng)，使粉體分散并使之持續(xù)翻滾，防止團(tuán)聚，實(shí)現(xiàn)均勻致密的膜層。