一種干式刻蝕機的晶片托盤
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201620502805.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN205789912U | 公開(公告)日 | 2016-12-07 |
申請公布號 | CN205789912U | 申請公布日 | 2016-12-07 |
分類號 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 竺平軍 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江優(yōu)眾新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 湯東鳳 |
地址 | 316000 浙江省舟山市定海區(qū)岑港街道塢坵社區(qū)豐園路15號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種干式刻蝕機的晶片托盤,屬于刻蝕機技術(shù)領(lǐng)域,包括第二滑軌、控制器、支桿、第二滑塊、第三氣缸、夾槽、第一滑軌、第一氣缸、第二氣缸、第一滑塊、第一夾板、氦氣供給管、卡槽、底臺、第一抵板、第二抵板、第二夾板和第四氣缸,所述底臺上安裝卡槽,底臺和卡槽上均安裝氦氣供給管,卡槽左右兩側(cè)各安裝夾槽,夾槽內(nèi)安裝第一滑軌,第一滑軌上安裝第一滑塊,第一滑塊右側(cè)安裝第一夾板,第二氣缸安裝在卡槽內(nèi),第二氣缸的活塞桿與第一夾板相連,卡槽內(nèi)安裝第一氣缸,第一夾板設(shè)有第一小洞;本實用新型的優(yōu)點是:能使氣體順利流動。 |
