一種干式刻蝕設(shè)備的刻蝕底盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201620502802.7 申請日 -
公開（公告）號 CN205944030U 公開（公告）日 2017-02-08
申請公布號 CN205944030U 申請公布日 2017-02-08
分類號 H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 竺平軍 申請（專利權(quán)）人 浙江優(yōu)眾新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯東鳳
地址 316000 浙江省舟山市定海區(qū)岑港街道塢坵社區(qū)豐園路15號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種干式刻蝕設(shè)備的刻蝕底盤，屬于干式刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括移動塊、直線電機(jī)、控制器、工作臺、氣缸、第一臺板、滑塊、滑軌、第二臺板、支塊、圓盤、氣體噴射盤和氣體噴射孔，所述工作臺上安裝第一臺板，第一臺板內(nèi)左右兩側(cè)各安裝氣缸，氣缸的活塞桿伸出第一臺板外，氣缸的活塞桿上安裝第二臺板，第二臺板安裝在滑塊上，滑塊安裝在滑軌上，滑軌安裝在工作臺上，第一臺板和第二臺板上各安裝圓盤；本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：能調(diào)節(jié)氣體噴射盤的高度，且能使晶片的周邊都能均勻的與氣體噴射孔相互對應(yīng)。