光刻對準方法以及晶圓

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410285012.3 申請日 -
公開（公告）號 CN104078405A 公開（公告）日 2014-10-01
申請公布號 CN104078405A 申請公布日 2014-10-01
分類號 H01L21/68(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 楊海波;李忠平 申請（專利權(quán)）人 上海天英微系統(tǒng)科技有限公司
代理機構(gòu) 上海翼勝專利商標事務所（普通合伙） 代理人 上海天英微系統(tǒng)科技有限公司
地址 200120 上海市浦東新區(qū)郭守敬路351號2號樓A635-15室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光刻對準方法以及一種晶圓。所述方法包括如下步驟：提供第一晶圓，所述第一晶圓的表面包括至少一第一對準標記，所述第一對準標記設置在第一晶圓外緣的一圓周區(qū)域內(nèi)；將所述第一晶圓同一第二晶圓鍵合，所述第二晶圓覆蓋第一晶圓表面的第一對準標記；去除第二晶圓外緣的一圓周區(qū)域，以露出第一晶圓表面的第一對準標記；以第一對準標記作為基準，在第二晶圓的暴露表面形成第二對準標記，所述第二對準標記將用于后續(xù)工藝的對準。本發(fā)明的優(yōu)點在于節(jié)約了背面光刻版及雙面拋光片的成本。