真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921119514.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211112211U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-07-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211112211U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-28 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/50(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 楊娜 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 德運(yùn)創(chuàng)鑫（北京）科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京華夏泰和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 君泰創(chuàng)新（北京）科技有限公司 |
| 地址 | 100176北京市大興區(qū)亦莊經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)榮華南路9號(hào)院2號(hào)樓10層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備，涉及真空設(shè)備領(lǐng)域。該真空反應(yīng)腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體，以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔；所述內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動(dòng)門(mén)，所述自動(dòng)門(mén)連接自動(dòng)門(mén)控制器，工件自所述外腔體經(jīng)所述自動(dòng)門(mén)進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔中。利用該真空反應(yīng)腔室能夠解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問(wèn)題，達(dá)到降低污染，提高工藝質(zhì)量的目的。?? |
