具有場板結(jié)構(gòu)的HEMT器件及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911359911.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113035943A | 公開(公告)日 | 2021-06-25 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113035943A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-25 |
分類號(hào) | H01L29/40;H01L29/778;H01L21/335 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王黎明;肖霞;何雍春 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 華潤微電子(重慶)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 賀妮妮 |
地址 | 401331 重慶市沙坪壩區(qū)西永鎮(zhèn)西永路367號(hào)四樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種具有場板結(jié)構(gòu)的HEMT器件及其制備方法,該結(jié)構(gòu)包括:HEMT器件及設(shè)置于柵電極與漏電極之間的源場板及浮空?qǐng)霭?,且源場板靠近柵電極,浮空?qǐng)霭蹇拷╇姌O,源場板與源極互連金屬結(jié)構(gòu)等電位電連接。通過設(shè)置源場板及浮空?qǐng)霭褰M成HEMT器件柵電極與漏電極之間的復(fù)合場板結(jié)構(gòu),將原本位于柵電極邊緣和漏電極邊緣的電場集中點(diǎn)轉(zhuǎn)移至源場板及浮空?qǐng)霭逯g的絕緣層中,優(yōu)化了整個(gè)HEMT器件內(nèi)部的電場分布,使電場變化梯度更舒緩,提高了器件的擊穿電壓。另外還避免了源場板直接延伸覆蓋柵電極引入額外的寄生電容。最后,源極互連金屬層、漏極互連金屬層、源場板及浮空?qǐng)霭逋瑫r(shí)形成,不需要增加額外工藝步驟。 |
