一種鋯靶材組件及磁控濺射裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201621196847.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN206273835U 公開(kāi)（公告）日 2017-06-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN206273835U 申請(qǐng)公布日 2017-06-23
分類號(hào) C23C14/35 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐興;李澤宇;周媛;魏志英 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣漢川冶新材料有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李佳
地址 618000 四川省德陽(yáng)市廣漢市新豐鎮(zhèn)古城村九社
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種鋯靶材組件及磁控濺射裝置，屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。該鋯靶材組件，包括鋯靶材和背板。鋯靶材包括一體成型的基底和凸臺(tái)?；拙哂猩媳砻婧拖卤砻?，背板設(shè)有凹槽，凹槽由底面和周面圍合而成?；椎南卤砻婧附佑诎疾鄣牡酌妫椎纳媳砻嬖O(shè)有鋸齒狀凸起，上表面與背板的靠近凸臺(tái)的一面位于同一平面。這種鋯靶材組件，能夠增大反濺射物在鋯靶材組件上的附著力，從而極大的減少了反濺射物脫落的情況發(fā)生，有效的提高了鋯金屬薄膜的質(zhì)量。這種磁控濺射裝置包括上述鋯靶材組件，使用這種磁控濺射裝置，能夠有效避免反濺射物的脫落，避免異常放電。