勻膠系統(tǒng)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210262041.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN114721224A | 公開（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114721224A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
| 分類號(hào) | G03F7/16（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I;G02B27/34（2006.01）I;G02B27/36（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 馮季村;呂學(xué)良;張洋;周游;李開宇;李自金;李慶;周東站;王喬;鄭京明;沈帆帆;蒲文軒 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京鼎佳達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 100024北京市朝陽(yáng)區(qū)管莊東里1號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N勻膠系統(tǒng)，涉及光刻工藝技術(shù)領(lǐng)域。其中，該勻膠系統(tǒng)包括：光源、投影卡具和底座；所述光源用于投射光線；所述投影卡具位于所述光源的下方；所述底座位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直線為軸線旋轉(zhuǎn)所述基片；所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述底座的上表面，且所述投影的輪廓的形狀和大小分別對(duì)應(yīng)于所述基片，用于所述基片的定位；其中，所述中心直線穿過所述底座的中心并與所述底座的上表面垂直。本申請(qǐng)技術(shù)方案可以實(shí)現(xiàn)基片的無(wú)接觸且快速對(duì)中操作，能夠解決基片對(duì)中時(shí)需要使用夾具，容易劃傷基片的技術(shù)問題。 |
