薄膜體聲波諧振器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310726314.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104753493B | 公開(公告)日 | 2017-08-25 |
申請公布號 | CN104753493B | 申請公布日 | 2017-08-25 |
分類號 | H03H9/17(2006.01)I | 分類 | 基本電子電路; |
發(fā)明人 | 胡念楚;楊清華;周沖 | 申請(專利權(quán))人 | 貴州漢天下科技(集團)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 貴州中科漢天下電子有限公司;蘇州漢天下電子有限公司 |
地址 | 556000 貴州省黔東南苗族侗族自治州凱里市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)甘塘路2號中盛茗園B棟3單元4層402號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種薄膜體聲波諧振器,包括:基底,該基底具有腔體結(jié)構(gòu);下電極層,該下電極層形成在所述基底之上并遮蓋至少部分所述腔體結(jié)構(gòu);所述腔體結(jié)構(gòu)與所述下電極層共同組成空腔;壓電層,該壓電層形成在所述下電極層之上;上電極層,該上電極層形成在所述壓電層之上;導(dǎo)熱介質(zhì)層,該導(dǎo)熱介質(zhì)層覆蓋所述基底的上表面,并與所述下電極層、所述壓電層、所述上電極層三者中的至少一個形成接觸。與傳統(tǒng)的薄膜體聲波諧振器相比,本發(fā)明所提供的薄膜體聲波諧振器在不增加器件面積的前提下具有更優(yōu)的功率承受能力。 |
