一種應(yīng)用于干式刻蝕工藝的上部電極等離子熔射方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011368454.6 申請日 -
公開（公告）號 CN112490106B 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN112490106B 申請公布日 2021-07-30
分類號 H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 權(quán)太植 申請（專利權(quán)）人 合肥微睿科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉杰
地址 230000安徽省合肥市新站區(qū)九頂山路以東、珠城路以南
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于干式刻蝕工藝的上部電極等離子熔射方法，具體包括：S1.遮蔽：采用不銹鋼板對上部電極進(jìn)行遮蔽，遮蔽非熔射面，露出熔射面；S2.噴砂：對熔射面進(jìn)行噴砂處理；S3.等離子噴涂：對熔射面進(jìn)行等離子噴涂；S4.去除遮蔽：去除上部電極上遮蔽的不銹鋼板；S5.一次清洗：采用干冰清洗方式清洗上部電極的表面；S6.檢查：檢查熔射涂層的外觀和尺寸；S7.二次清洗：采用高壓清洗方式清洗上部電極上的電極孔；S8.干燥：對上部電極進(jìn)行烘干。本發(fā)明能夠獲得所需厚度的熔射涂層，提高了上部電極的脆弱部位的絕緣性及耐腐蝕性，且能夠降低在使用端上線時形成電弧與擊穿的發(fā)生率，延長了上部電極的使用壽命。