一種F32裝置副產(chǎn)HCl精制設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201821987147.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN209442638U 公開（公告）日 2019-09-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN209442638U 申請(qǐng)公布日 2019-09-27
分類號(hào) C01B7/07（2006.01）I 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 苗乃芬; 張繼梁; 李通; 付炳偉; 王繼彥 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 山東新龍科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 代理人 山東新龍科技股份有限公司
地址 262709 山東省濰坊市壽光市王高新龍工業(yè)園（陳家馬莊村北）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種F32裝置副產(chǎn)HCl精制設(shè)備，包括HCl分離單元、吸附干燥單元、成品精餾單元，所述HCl分離單元連接吸附干燥單元，吸附干燥單元連接成品精餾單元；本實(shí)用新型的精制設(shè)備，采用第一緩沖罐，防止上游生產(chǎn)系統(tǒng)的波動(dòng)對(duì)氯化氫分離塔進(jìn)料產(chǎn)生影響，穩(wěn)定產(chǎn)出合格產(chǎn)品；進(jìn)料冷卻器、產(chǎn)品冷卻器可對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行冷卻，消除產(chǎn)品精餾塔冷凝器及產(chǎn)品罐的換熱面積小、冷卻效果差的問題；氯化氫產(chǎn)品塔再沸器熱源為壓縮機(jī)高溫氣體，不僅節(jié)約能源，同時(shí)解決再沸器腐蝕問題；使用第一吸附器、干燥器對(duì)物料進(jìn)行吸附，使微量的重金屬及含氟物質(zhì)被攔截，保證了產(chǎn)品純度，附加值高，做到了副產(chǎn)物的高效循環(huán)使用，具有重要的意義。