一種超薄LED芯片
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910643455.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110473942B | 公開(公告)日 | 2021-09-28 |
申請公布號 | CN110473942B | 申請公布日 | 2021-09-28 |
分類號 | H01L33/20(2010.01)I;H01L33/24(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 游正璋;馬后永;李起鳴 | 申請(專利權(quán))人 | 上海顯耀顯示科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 200000上海市浦東新區(qū)鴻音路1889號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種超薄LED芯片,采用了半導(dǎo)體超薄外延結(jié)構(gòu),利用應(yīng)力調(diào)節(jié)層來調(diào)節(jié)第一導(dǎo)電類型外延層中由于生長產(chǎn)生的應(yīng)力,減小應(yīng)力對發(fā)光層的影響,提高發(fā)光層發(fā)光效率。進(jìn)一步的,在應(yīng)力調(diào)節(jié)層頂部生長第一導(dǎo)電類型位錯(cuò)微調(diào)層,來控制進(jìn)入發(fā)光層的位錯(cuò)濃度,提高發(fā)光層的發(fā)光效率。由于外延結(jié)構(gòu)非常薄,在制備器件的過程中,對外延結(jié)構(gòu)的刻蝕并不會造成外延結(jié)構(gòu)的側(cè)壁傾斜度很大,近似垂直,由于刻蝕后的外延結(jié)構(gòu)頂部和底部的面積相近,與傳統(tǒng)發(fā)光外延芯片相比,本發(fā)明的外延結(jié)構(gòu)所在芯片的單位面積的數(shù)量有效增加,提高了芯片集成度,提高了器件單位面積的發(fā)光效率。 |
