基于深度學(xué)習(xí)的特征字典構(gòu)建及圖像分割方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010182299.2 申請日 -
公開（公告）號 CN111368845A 公開（公告）日 2020-07-03
申請公布號 CN111368845A 申請公布日 2020-07-03
分類號 G06K9/34;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08;G06N20/00 分類 -
發(fā)明人 張慶輝;王彩紅;張東林;常夏寧;吳小雪 申請（專利權(quán)）人 鄭州艾毅電子科技有限公司
代理機構(gòu) 河南科技通律師事務(wù)所 代理人 張曉輝;樊羿
地址 450001 河南省鄭州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)蓮花街100號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種基于深度學(xué)習(xí)的特征字典構(gòu)建及圖像分割方法，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中定位不精確，細(xì)節(jié)不敏感的技術(shù)問題本發(fā)明。本發(fā)明包括以下步驟：制作圖像訓(xùn)練數(shù)據(jù)集，其含有表示目標(biāo)類別的邊框盒；使用全卷積自適應(yīng)網(wǎng)絡(luò)提取數(shù)據(jù)集中圖像的像素級特征；提取圖像中目標(biāo)的邊界框和掩膜；將掩膜中包含的像素點和訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的邊框盒進(jìn)行比對，對掩膜進(jìn)行分類，形成的所有掩膜以及它們對應(yīng)的類別即為特征字典。本發(fā)明的有益技術(shù)效果在于：兼顧精度和效率，不要求圖像尺寸相同，適應(yīng)性強。