一種氮化硼氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023121948.2 申請日 -
公開（公告）號 CN213925008U 公開（公告）日 2021-08-10
申請公布號 CN213925008U 申請公布日 2021-08-10
分類號 C23C16/455（2006.01）I;C23C16/34（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡祥龍;周岳兵;戴煜;胡高健;王艷艷 申請（專利權(quán)）人 湖南中科頂立技術(shù)創(chuàng)新研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉奕
地址 410118湖南省長沙市天心區(qū)暮云工業(yè)園頂立科技研發(fā)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及到一種氮化硼氣相沉積設(shè)備，包括殼體，以及相互獨立的第一導(dǎo)氣管和第二導(dǎo)氣管，所述第一導(dǎo)氣管和所述第二導(dǎo)氣管均與所述殼體的內(nèi)腔相通；所述第一導(dǎo)氣管用于傳輸BCl3氣體，所述第二導(dǎo)氣管用于傳輸NH3氣體，所述第一導(dǎo)氣管的外壁纏繞有加熱帶。該設(shè)備設(shè)計合理，能夠有效維持氮化硼沉積過程中反應(yīng)氣體輸送的穩(wěn)定性，確保工件表面氮化硼的沉積質(zhì)量，使工件的氣相沉積生產(chǎn)工藝過程更加穩(wěn)定可靠。