一種導(dǎo)電漿料及其制備方法和用途
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201810264578.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN110322985A | 公開(公告)日 | 2019-10-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110322985A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-10-11 |
分類號(hào) | H01B1/22;H01B13/00;H05K1/09;H05K1/11 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 余若冰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海邏驊投資管理合伙企業(yè)(有限合伙) |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 高燕;許亦琳 |
地址 | 201407 上海市奉賢區(qū)青村鎮(zhèn)奉柘公路2799號(hào)1859室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N導(dǎo)電漿料及其制備方法和用途,以所述導(dǎo)電漿料的原料組分的總質(zhì)量為基準(zhǔn)計(jì),所述導(dǎo)電漿料包括以下原料組分及重量百分含量:助焊劑5wt%~20wt%;表面鍍錫金屬粉60wt%~90wt%;低熔點(diǎn)金屬粉5wt%~20wt%。本申請(qǐng)采用表面鍍錫銅粉和/或表面鍍錫銅合金粉,避免了銅粉/銅合金粉表面的氧化層產(chǎn)生,另外,錫鍍層直接與銅或銅合金表面接觸,在加熱過程中,首先熔化的低熔點(diǎn)金屬粉與鍍錫層形成低溫合金熔液,直接浸潤銅/銅合金,使得下一步合金化變得更容易進(jìn)行;由于使用了低熔點(diǎn)金屬,使得合金化可以在較低溫度下進(jìn)行,不僅加快了合金化的速度,也使合金化反應(yīng)更完全,提高了孔連接的可靠性。 |
