一種基于點(diǎn)云的輸電通道內(nèi)隱患測(cè)距的方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110638339.4 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113465522A | 公開（公告）日 | 2021-10-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113465522A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-01 |
| 分類號(hào) | G01B11/14（2006.01）I | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 趙硯青;劉天宇;楊菲;谷加強(qiáng);姜新宇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 智洋創(chuàng)新科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 濟(jì)南竹森知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 呂利敏 |
| 地址 | 255188山東省淄博市開發(fā)區(qū)政通路135號(hào)E座405室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 基于點(diǎn)云的輸電通道內(nèi)隱患測(cè)距的方法包括：分別選取輸電通道圖像中位于地面、左側(cè)導(dǎo)線和右側(cè)導(dǎo)線的若干點(diǎn)并記錄下其在輸電通道圖像的像素坐標(biāo)系中的二維坐標(biāo)值與三維坐標(biāo)值一一對(duì)應(yīng)；將二維坐標(biāo)值和三維坐標(biāo)值按照彼此對(duì)應(yīng)的點(diǎn)建立一一映射關(guān)系；使用基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)模型識(shí)別輸電通道圖像中的隱患，并框選出所述隱患，同時(shí)得到隱患在像素坐標(biāo)系中的像素高度和二維坐標(biāo)值；根據(jù)隱患在像素坐標(biāo)系中的二維坐標(biāo)值和像素高度，計(jì)算其在點(diǎn)云數(shù)據(jù)中的三維坐標(biāo)值和高度值，進(jìn)而求出隱患與導(dǎo)線的距離。本方法結(jié)合了三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)，準(zhǔn)確定位隱患位置，擁有更高的精度。 |
