亞納米級高精度寫場拼接光刻機(jī)系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021078739.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212873186U | 公開（公告）日 | 2021-04-02 |
| 申請公布號 | CN212873186U | 申請公布日 | 2021-04-02 |
| 分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 周向前;伊沃·朗格諾 | 申請（專利權(quán)）人 | 百及納米科技（上海）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州市一新專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 王德祥 |
| 地址 | 201210上海市浦東新區(qū)納賢路60號5號樓5102室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種亞納米級高精度寫場拼接光刻機(jī)系統(tǒng)，包括機(jī)體里的臺面，臺面上方設(shè)有電子顯微鏡、至少一臺納米觸點(diǎn)傳感器及晶圓移動(dòng)工作臺；電子顯微鏡上設(shè)有電子束鏡筒；晶圓工作臺上設(shè)有用于拖動(dòng)其前、后和/或左、右和/或上、下移動(dòng)以及角度變化的數(shù)控驅(qū)動(dòng)裝置。通過對曝光前后，晶園移動(dòng)前后，寫場的位置坐標(biāo)比較，計(jì)算出拼接的偏差，以負(fù)反饋控制方式進(jìn)行晶圓的高精度光刻拼接，克服了現(xiàn)有非原位、遠(yuǎn)離寫場、盲人式開環(huán)光刻拼接技術(shù)受晶園工作臺機(jī)械運(yùn)動(dòng)精度、電子束長時(shí)間漂移的影響而拼接精度差的缺陷，突破了現(xiàn)有技術(shù)嚴(yán)重依賴光刻機(jī)系統(tǒng)晶園工作臺數(shù)控精度的瓶頸，提供了一種新型的亞納米級高精度寫場拼接光刻機(jī)系統(tǒng)。?? |
