一種步進(jìn)式光刻機(jī)、其工作方法及圖形對準(zhǔn)裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011412793.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112445088A | 公開（公告）日 | 2021-03-05 |
| 申請公布號 | CN112445088A | 申請公布日 | 2021-03-05 |
| 分類號 | G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 周向前;尹志堯;朗格諾;杜川 | 申請（專利權(quán)）人 | 百及納米科技（上海）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 陳斌 |
| 地址 | 201210上海市浦東新區(qū)納賢路60弄5棟5102 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種步進(jìn)式光刻機(jī)、其光刻圖形對準(zhǔn)裝置及工作方法。本發(fā)明在晶圓上設(shè)置若干三維標(biāo)記，以此作為晶圓表面定位的坐標(biāo)預(yù)設(shè)，利用針尖傳感頭傳感技術(shù)測量該三維標(biāo)記獲得晶圓表面亞納米精度的坐標(biāo)，然后移動晶圓工作臺，隨之測得晶圓工作臺移動后的三維標(biāo)記的新坐標(biāo)并同晶圓工作臺移動前同樣的三維納米坐標(biāo)比較得出晶片區(qū)域位置坐標(biāo)誤差值。利用閉環(huán)控制原理將這個坐標(biāo)誤差通過移動曝光束發(fā)生裝置同晶片區(qū)域的相對位置進(jìn)行補(bǔ)償，實現(xiàn)相對坐標(biāo)位置的重新精確對準(zhǔn)。本發(fā)明可以應(yīng)用在使用掩模板的深紫外和極紫外光學(xué)光刻機(jī)，也可以應(yīng)用在電子束/光子束直寫式光刻機(jī)的亞納米級晶片區(qū)域或?qū)憟鰴M向和縱向?qū)?zhǔn)拼接等應(yīng)用場景。?? |
