半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201020179750.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN201868459U 公開(kāi)（公告）日 2011-06-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN201868459U 申請(qǐng)公布日 2011-06-15
分類號(hào) H01L31/18(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張浩;昝圣達(dá);朱峰林 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇綜藝光伏有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 江蘇綜藝光伏有限公司
地址 226300 江蘇省通州市興東鎮(zhèn)綜藝數(shù)碼城
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，包括腔壁、氣體注射器、負(fù)載架以及承受器，所述的氣體注射器設(shè)置在腔壁的上端，所述的承受器設(shè)置在氣體注射器的下端，其特征在于：所述的負(fù)載架設(shè)置在所述的承受器上，在所述的腔壁上設(shè)置有氣體緩沖層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型半導(dǎo)體太陽(yáng)能鍍膜工藝腔室，負(fù)載架不是設(shè)置在腔壁上，而是設(shè)置在承受器上，用來(lái)支撐玻璃，在腔壁上再設(shè)獨(dú)立的氣體緩沖層單獨(dú)來(lái)阻止工藝氣體。采用本實(shí)用新型的工藝腔室，玻璃的負(fù)載架設(shè)置在承受器上，在對(duì)玻璃進(jìn)行支撐后，玻璃的邊緣不會(huì)快速的降溫，經(jīng)承受器加熱后，玻璃溫度均勻，鍍膜效果好，色差小。