一種控制離子注入的二維掃描裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201620277974.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN205428869U 公開（公告）日 2016-08-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN205428869U 申請(qǐng)公布日 2016-08-03
分類號(hào) H01J37/317(2006.01)I;H01J37/302(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉輝;童雪林;劉光燦;謝明華;熊躍軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 長(zhǎng)沙米德電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 410022 湖南省長(zhǎng)沙市開福區(qū)洪山路98號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種控制離子注入的二維掃描裝置，該裝置包括主控機(jī)、通信接口電路、DSP處理器、FPGA、鍵盤、兩路高速DAC轉(zhuǎn)換電路、兩路濾波電路、兩路緩沖放大電路和高壓放大電路。兩路高壓放大電路和兩路緩沖放大電路連接，兩路緩沖放大電路和兩路高速DAC連接，F(xiàn)PGA和兩路高速DAC連接，DSP處理器與FPGA連接，主控機(jī)通過(guò)通信接口電路連接DSP處理器進(jìn)行數(shù)據(jù)通信，啟停控制和工作狀態(tài)指示。本實(shí)用新型能夠?qū)崿F(xiàn)離子注入晶片的圓周形掃描，任意區(qū)域掃描，減少掃描時(shí)間。