N-TOPCon太陽(yáng)能電池、組件、系統(tǒng)及電池中制備雙面氧化硅的方法、設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110322400.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113193074A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-07-30 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113193074A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-30 |
分類(lèi)號(hào) | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/068(2012.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 杜哲仁;崔義乾;黃健;喬振聰;陳嘉;劉榮林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 泰州中來(lái)光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京金之橋知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐李娜;鄧俊勇 |
地址 | 225500江蘇省泰州市姜堰經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)開(kāi)陽(yáng)路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種N?TOPCon太陽(yáng)能電池、組件、系統(tǒng)及電池中制備雙面氧化硅的方法、設(shè)備,其中方法包括:步驟S1.以N型硅作為襯底,在N型硅的正面制備p+摻雜區(qū)域;步驟S2.在N型硅的正面制備氧化硅薄膜,同時(shí)在N型硅的背面制備隧穿氧化層;步驟S3.在N型硅的背面制備摻磷多晶硅;步驟S4.在N型硅的正面和背面制備鈍化膜后印刷金屬電極。本發(fā)明在保證潔凈度的同時(shí),減少工序,解決N?TOPCon工序多的問(wèn)題,增強(qiáng)N?TOPCon的核心競(jìng)爭(zhēng)力。 |
