一種由莪術(shù)醇合成的磺酸锍鹽類光產(chǎn)酸劑及其合成方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011541788.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113045537A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請公布號 | CN113045537A | 申請公布日 | 2021-06-29 |
分類號 | C07D333/46(2006.01)I;C07D493/08(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I | 分類 | 有機(jī)化學(xué)〔2〕; |
發(fā)明人 | 郭穎;畢景峰;李嫚嫚;王尹卓;潘惠英 | 申請(專利權(quán))人 | 上海博棟化學(xué)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 201614上海市松江區(qū)九亭鎮(zhèn)中心路1158號9幢403室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種由莪術(shù)醇合成的磺酸锍鹽類光產(chǎn)酸劑,涉及光產(chǎn)酸劑領(lǐng)域,該光產(chǎn)酸劑的結(jié)構(gòu)式為:R1選自和R2選自氟代烷基或者氟代環(huán)烷基,且R2結(jié)構(gòu)中的部分亞甲基可以被酯基、醚、羰基或者碳酸酯基取代。該光產(chǎn)酸劑能夠降低光產(chǎn)酸劑的擴(kuò)散,有利于改善邊緣粗糙度,減小線寬粗糙度,提高分辨率;親水親油平衡,既具有一定的粘附性,又可以在溶劑中均勻溶解,有利于成像;在193nm波長的光源下吸收低,更加透明,有利于光刻膠在193nm波長光源下的曝光,并且具有優(yōu)良的耐刻蝕性能;合成方法簡單。 |
