一種解決鈍化層對功率器件可靠性影響的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910282761.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110010508A | 公開(公告)日 | 2019-07-12 |
申請公布號 | CN110010508A | 申請公布日 | 2019-07-12 |
分類號 | H01L21/56;H01L23/31 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張二雄 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市銳駿半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳眾邦專利代理有限公司 | 代理人 | 崔亞軍 |
地址 | 518000廣東省深圳市南山區(qū)高新中一道2號長園新材料港8棟4樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種解決鈍化層對功率器件可靠性影響的方法,功率器件表面包括元胞區(qū)和終端區(qū),所述元胞區(qū)又分為GATE區(qū)域和Source區(qū)域,位于元胞區(qū)內(nèi)的GATE區(qū)域和Source區(qū)域刻開區(qū)域,其余元胞區(qū)和終端區(qū)全部覆蓋鈍化層,所述終端區(qū)除鈍化層Gate區(qū)域和source區(qū)域刻開一小塊用于封裝后引線外,同時在終端區(qū)打開一個或多個較小的刻開區(qū),每個刻開區(qū)1um~20um寬,總刻開區(qū)的面積小于終端區(qū)面積的一半;釋放終端區(qū)鈍化層的膜內(nèi)應(yīng)力及可動離子,大大減小鈍化層對終端區(qū)的影響,解決了因可動離子及應(yīng)力問題導(dǎo)致的器件失效,大大提升器件的功能及可靠性。 |
