大尺寸高熵高純度難熔金屬合金濺射靶材及其制備工藝
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210072452.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114525485A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114525485A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-24 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/35（2006.01）I;C22C30/00（2006.01）I;C23C16/08（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 徐從康;馬賽;賀濤;陳簫簫 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 亞芯半導(dǎo)體材料（江蘇）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 常州市權(quán)航專利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 213000江蘇省常州市天寧區(qū)福陽(yáng)路61號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于高熵難熔金屬合金濺射靶材技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種大尺寸高熵高純度難熔金屬合金濺射靶材及其制備工藝，包括以下步驟：步驟S1，將金屬粉與用氟和/或氯元素氣體反應(yīng)，制備出鹵化物前驅(qū)體；步驟S2，對(duì)鹵化物前驅(qū)體進(jìn)行提純，得到高純度鹵化物；步驟S3，將高純度鹵化物采用化學(xué)氣相沉積法用還原氣體還原成高純金屬；步驟S4，將高純金屬沉積到基體材料上，一步法生產(chǎn)出大尺寸高熵高純度難熔金屬合金濺射靶材；本發(fā)明制備的大尺寸高熵高純度難熔金屬合金濺射靶材，具有工序簡(jiǎn)單、尺寸大、純度高、密度高、一致性好等優(yōu)勢(shì)。 |
