高純度鈦粉、鎢鈦合金濺射靶材的制備方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110553332.2 申請日 -
公開（公告）號 CN113275589A 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN113275589A 申請公布日 2021-08-20
分類號 B22F9/30;B22F1/00;C23C14/34;C23C16/14 分類 鑄造；粉末冶金;
發(fā)明人 陳簫簫;林勝樂;高利 申請（專利權）人 亞芯半導體材料（江蘇）有限公司
代理機構 常州市權航專利代理有限公司 代理人 趙慧
地址 213000 江蘇省常州市天寧區(qū)青洋北路143號創(chuàng)業(yè)服務中心內
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于濺射靶材技術領域，具體涉及一種高純度鈦粉、鎢鈦合金濺射靶材的制備方法及系統(tǒng)。其中，所述高純度鈦粉的制備方法，采用氣相沉積法，將鈦的鹵化物加熱分解，以制得高純度鈦粉。本發(fā)明通過采用氣相沉積的方法制得高純度鈦粉，并將該高純度鈦粉直接用于鎢鈦濺射靶材的制備，不僅提高了鎢鈦濺射靶材的純度，還避免了鈦粉與氧反應導致氧含量升高；本發(fā)明制得的鎢鈦濺射靶材的純度不低于99.999％，氧含量不超過300ppm，純度和氧含量遠高于目前市場上的產品，完全滿足電子行業(yè)的需求。